当前位置: 制药设备 >> 制药设备前景 >> 基于CFD的TFTLCD厂房气
0引言
近几年随着技术的进步和电子工艺的飞速发展,薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)技术越来越成熟,全球液晶电视市场呈现了爆发式的增长。随着产能的提高和技术的革新,洁净厂房的设计要求也越来越高。TFT-LCD的制造向大尺寸方向发展,所需要的洁净厂房面积和跨度将会更大,在那么大跨度的洁净室使用传统的双侧回风是否能达到高洁净度等级、单向气流以及较高温湿度的要求是一个重点难题。使用计算流体力学(CFD)来进行模拟是最好的解决方法。本文以某生产厂房为研究对象,运用Airpak软件对目标区域的气流进行仿真模拟,判断不同位置的气流组织是否满足生产要求,并对气流形式提出优化建议。1物理模型和数学模型
以某生产厂房的photo区为研究对象,其南北长度m,东西长度65m,高度14m,共有9台曝光机。此洁净区采用垂直单向流,顶部均布FFU(风机过滤单元);同时利用大量循环风,循环风(循环风经干表冷盘管冷却降温)与处理后的新风混合后,进入上部回风静压箱,经FFU加压、过滤后送入生产区,其气流流程如下:回风→干表冷盘管→和处理过的新风混合→FFU→生产区→开孔板→回风夹道。回风夹道设置在南北两侧。南侧、北侧回风夹道均长61m,宽6m。取X=26m为A-A剖面(见图1)。本文采用k-ε双方程模型[2~4]进行模拟,k方程、ε方程与能量方程、动量方程、连续方程一起构成了室内空气流动与换热的基本控制方程。即:标准k-ε模型,是目前工程中应用最广、取得成果最多的模型。
2边界条件
格构梁、回风夹道、设备尺寸及图纸为准,FFU出风口风速取平均值设备顶部自带FFU,风速为0.4m/s。和下夹层管道的影响,假定管道分别占用高度的回风夹道内的回风有效面积为90%。3初始模拟结果与分析
photo区流场模拟初步结论
(1)整个photo区未出现气流上返区域。
(2)距地面1.2m处,整体区域速度场不太均匀,拐角和狭长空间风速稍偏大;西侧设备间距小,压力偏大,会使气流向东侧偏移,建议在区域内设置挡帘,减少气流转移。东南侧气流速度偏大,建议增加回风夹道。
(3)设备层没有出现上返气流,也无涡流;典型剖面的回风夹道局部风速达到8.31m/s,上夹层风速达到出了合理范围,建议增加回风夹道,以减小风速。
(4)从压力分布看,压差为Pa~Pa,超出静压箱的合理压差(力大于FFU机外余压),不满足送风要求。
4优化后模拟结果与分析
在东侧新增两条回风夹道中间位置也新增一条回风夹道见图9。优化后photo区流场模拟结果
(1)整个photo区未出现气流上返区域。
(2)距地面1.2m处,整体区域速度场不太均匀,拐角和狭长空间风速稍偏大;西侧设备间距小,气流向东侧偏移,建议在区域内设置挡帘并调整架空地板布置,减少气流转移。
(3)设备层没有出现上返气流,也无涡流;型剖面的回风夹道局部风速不超过绝大部分区域风速不超过3。域风速不超过4m/s,在合理范围内。
(4)从压力分布看,压差为50Pa~65Pa,满足送风要求。
5结论
通过上述对比分析可知气流组织得到很大改善,从而可以指导设计。洁净厂房的设计过程中,当遇到预判的气流组织时,可以借助直观地计算出速度场、温度建议,从而优化设计。来源:洁净技术与应用
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