清洗贯穿全流程，随着制程难度增加、清洗步骤随之大增，对清洗设备需求也将提升。1）硅片的加工过程对洁净度要求非常高，几乎每一步加工都需要清除沾污，而且随着未来制程不断先进、所需清洗步骤不断增多，清洗设备需求量将成倍增长。2）目前晶圆清洗设备在晶圆制造设备中的采购费用占比约为6%，清洗方式有湿法和干法两种，目前生产工艺中以湿法清洗为主、结合部分干法工艺，其中湿法设备主要有单片晶圆清洗设备、槽式晶圆清洗设备、洗刷机等。市场格局：日系占据主导地位，国产企业奋起直追。1）假设清洗设备晶占晶圆制造设备的比重稳定，粗略计算出全球半导体清洗设备-年的市场规模分别约为28.68、29.18、32.06亿美元。2）未来半导体清洗设备行业增长的驱动力包括三部分：一方面是随着工艺的不断升级、制造流程增多，清洗频率也将有所增加，清洗设备的需求量将不断提升；二是集成电路制造工艺升级，芯片结构越发复杂、清洗难度升级，如3D结构等需要在对芯片无伤情况下对内部结构进行清洗；三是集成电路新型材料的出现，也对清洗工艺提出了新的需求。3）从清洗设备的配备数量来看，通常4万片产能的产线上，8英寸线需要配备50台左右、12英寸线需要70台左右，国外部分厂商可以达到台的配备，包括槽式晶圆清洗设备和单片晶圆清洗设备。4）全球清洗设备市场中，日系企业占据绝对的主导地位，迪恩士（DNS）市场份额大约为60%、东京电子（TokyoElectron大约为30%，其他企业还有美国LamResearch、韩国SEMES和KCTECH等，后二者主要供给韩国市场。投资建议：国产企业奋起直追，龙头盛美回归在即。目前中国市场和国际市场范围内，主要的湿法设备厂商仍以日本和欧美为主，国内企业正奋起直追但占比仍较低，国内市场中预计合计占比不超过10%，未来湿法工艺设备的挑战和机会都很大，目前国内湿法清洗设备供应商包括盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源微等，均将有所受益，尤其是龙头盛美兆声波单片清洗设备获得全球众多客户认可，子公司科创板IPO申请已正式获上交所受理。北方华创——综合实力强劲的半导体设备供应商北方华创主营半导体装备、真空装备、新能源锂电装备及精密元器件业务，为半导体、新能源、新材料等领域提供解决方案，以生产销售高端集成电路装备为主，重点发展刻蚀设备（Etch）、物理气相沉积设备（PVD）和化学气相沉积设备（CVD）三大类设备，广泛应用于集成电路制造、先进封装、半导体照明(LED)、微机电系统（MEMS）等领域。半导体清洗设备方面，北方华创可提供多种类型的单片清洗设备和槽式清洗设备，已广泛应用于集成电路至纯科技——高纯工艺龙头，半导体清洗设备后起之秀至纯科技成立于年，一直致力于为高端先进制造业企业提供高纯工艺系统的解决方案，涵盖了提供整个系统的设计、选型、制造、安装、测试、调试和系统托管服务，广泛应用于半导体、微电子、生物医药、光伏、光纤、TFT-LCD、LED等领域，包括华力、华润上华、士兰微、台积电、力晶等半导体知名用户；京东方、和辉等等显示屏领导者；中天、富通、通鼎、亨通等光纤用户；华灿、聚灿、圆融、国星光电等LED用户；英利、晶澳等光伏用户；以及中信国健、扬子江药业、武汉生物所、华瑞等生物制药企业。根据公司公告，目前公司已经获得了中芯、万国、TI、燕东、华润等客户的正式订单，并与长江存储、合肥长鑫等国内最主流存储器厂商建立了密切合作关系。沈阳芯源微——涂胶显影领先企业向清洗设备进军沈阳芯源微电子设备股份有限公司成立于年，是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业，专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务，致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案，已申请余项专利，其中发明专利项；已拥有授权专利项，其中发明专利项。沈阳芯源所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，可根据用户的工艺要求量身定制。

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